二氧化硅納米顆粒的規(guī)格尺寸要求

供應商：上海瑞貝貿(mào)易有限公司

在高效液相色譜（HPLC）、超高效液相色譜（uhpc）和親水相互作用色譜（HILIC）等工業(yè)應用中，用二氧化硅作為固*相來實現(xiàn)色譜分離。硅芯型顆粒由于粒徑分布窄（PSD）而比多孔顆粒具有更高的分離效率。我們的高純度、單分散二氧化硅具有窄尺寸分布峰，由于窄尺寸分布而增強了色譜。由于床層和流動的均勻性，硅石的窄尺寸分布導致了更高的效率和稠度。床層均勻性導致硅石床層空隙減少和溝道減少，從而獲得更長的使用壽命和更小的板高。二氧化硅納米粒子在正相和高效液相色譜固*相表面都有支持HILIC的硅醇基團。我們提供的二氧化硅作為原料，用于創(chuàng)建非極性、功能化表面、C18、C8等，用于反相高效液相色譜。要求尺寸從高納米到低微米。

 ? ?二氧化硅納米球和微珠

? ?藥*物遞送

? 硅片污染標準

? ?疏水性二氧化硅和功能化二氧化硅

? ?聚合物填料

? ?高壓液相色譜法

? ?CMP漿料，硅片拋光

? ?藥*物遞送和介孔二氧化硅納米顆粒（MSN）

? ?薄膜、太陽能電池制造

? ?納米復合材料

? ?SSIS（掃描表面檢查系統(tǒng)）和氣溶膠粒子計數(shù)器尺寸校準

? ?高壓液相色譜法

? ?波特蘭水泥和水泥制造

   晶圓檢驗系統(tǒng)是掃描表面檢驗系統(tǒng)。由于二氧化硅的折射率接近聚苯乙烯膠乳的折射率，因此*以使用二氧化硅粒子對來自KLA、Hitachi和Topcon的Surfscan等SSIS工具進行校準。因此，PSL球和二氧化硅納米粒子之間的校準是相似的。二氧化硅納米顆粒在使用高功率激光（如KLA-Tencor-SP3、SP5和SP5xp晶圓檢測系統(tǒng)）的應用中更為穩(wěn)健。二氧化硅納米粒子的折射率與聚苯乙烯乳膠微球的折射率接近。二氧化硅顆粒能夠承受高功率激光的高功率，使用二氧化硅納米顆粒生產(chǎn)的顆粒晶圓標準比使用PSL球體生產(chǎn)的更持久。 

二氧化硅粒徑標準在散裝粉末中*用作1Kg至1000kg體積的功能化二氧化硅或疏水性二氧化硅，尺寸范圍為40nm至2微米，用于聚合物填料。作為尺寸標準的二氧化硅納米顆粒也以15ml體積和10%濃度放置在去離子水溶液中，尺寸從40nm到2微米不等。硅納米顆粒用于SSIS尺寸校準和激光粒子計數(shù)器（LPC）尺寸校準是極好的，因為當用目前SSIS和LPC儀器中使用的高功率激光掃描尺寸校準時，硅粒子不會收縮。SSIS和LPC校準通常要求的二氧化硅粒徑為32nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、100nm、125nm、150nm、200nm 250nm、300nm、400nm、500nm、600nm、750nm、800nm、1000nm、2000nm和3000nm。二氧化硅顆粒也用于藥*物輸送。